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JB/T 8945—1999 真空濺射鍍膜設備
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JB/T 8945—1999 真空體濺射玻璃鍍膜設施設備
Vacuum sputtering coating plant
1、面積
JB/T 8945—1999 渦流濺射渡膜產品法律規定法律規定了渦流濺射渡膜產品的技術設備產品參數和基本性產品參數,技術設備標準要求,實驗方式 ,撿驗標準,因素、打包、及運輸和存放等。
本要求適宜于壓力值在1×10-4~5×10-3 Pa 的范圍的真空環境賤射表層的鍍膜機械(低于統稱機械)。
2、引入標準化
下類細則所涉及到的條文,依據在本細則中摘引而定義為本細則的條文。本細則出版發行時,隨時發行版的均為有郊。每個細則都有被頒布,施用本細則的多個應淺談施用下類細則新的發行版的的機會性。
GB 191—1990 打包運輸管理構造標志logo
GB/T 6070—1995 真空泵法蘭部
GB/T 11164—1999 真空箱電鍍設施設備 基礎的技術經濟條件
GB/T 13306—1991 標識標牌
JB/T 1090—1991 J型機械泵用橡塑封口圈
JB/T 1091—1991 JO型和骨架型真空室用橡膠制品抽真空圈 結構及規格尺寸
JB/T 1092—1991 O型抽真空用硅膠密封蓋圈 技術要求及規格尺寸
JB/T 7673—1995 真空環境系統 尺寸編制管理措施
3、技術規格與首要規格
3.1、機器設備的材質應合乎JB/T 7673的歸定。
3.2、產品的大體數據應非常符合表1 的規定。
表 1 基本性主要參數
4、技術水平需求
4.1、環保設備普通 事情先決條件
4.1.1、溫差:10~30℃。
4.1.2、對應室內溫度:不太于75%。
4.1.3、保壓水進水并且沒有及時正確地處理溫濕度:不不低于25℃。
4.1.4、急冷水效率:旅游城市杭州自來水或效率很的水。
4.1.5、配電24v電源:380V、三相四線四線制、50 Hz,直流電壓起伏較大區域:361~399 V,頻繁起伏較大區域:49~51 Hz。
4.1.6、的環境:酒店內應衛生;地面上、棚頂板及設配欣賞這棚頂應干凈徹底;氣流應保潔,不應為可因起家電及他輕合金件的表面結垢或因起輕合金間導電的塵沙或的氣體會出現。
4.2、構造耍求
4.2.1、主設備中靜、動填料密封圈的構成類型及長寬比應不符合GB/T 6070和JB/T 1090~1092的標準規定。
4.2.2、重力作用供水管道上和鍍一層薄薄的膜室最靠近排氣閥口方位中應安裝重力作用測試規管,各衡量各個部位位的心理壓力。
4.2.3、假如的設備以油發展泵或油發展發射泵偏重于泵,應在其進氣口一邊裝油氣體捕集器阱。
4.2.4、渡膜室應設立探究窗,對在渡膜時候中會出現放射性元素的機械,探究窗應該改裝防放射性元素透鏡。
4.3、制造出安全性能
機械的加工效率規定按GB/T 11164—1999 中4.4。
4.4、穩定抗氧化要
機器的很安全保護耍求按GB/T 11164—1999 中4.5。
5、現場實驗步驟
5.1、終極心理壓力
5.1.1、檢驗水平
a)渡膜地下室為輕載(即不用被鍍貨物,不會完成濺射),不宜拆去的設備正常的工做的時候裝有的濺射源、工件表面支撐架等主件;
b)真空度測定規管應裝于鍍一層薄薄的膜室靠到排氣閥門口方位上;
c)能接受在抽氣期間連用系統任何還配有的電加熱或轟擊裝置對玻璃鍍膜室對其進行除氣。
5.1.2、測試軟件技巧
按GB/T 11164—1999 中的5.2.2。
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