真空電門管管殼制釉中釉的配方設計及燒釉工藝的制訂要端
釉是遮蓋在陶瓷名義的一層相近玻璃態的物質,它存在與玻璃類似的某些物感性質,化學性質,比如各向異性,沒顯然的熔點,存在光澤,硬度大,能抗酸和堿的侵蝕(氫氟酸與熱堿除外)。但釉不是玻璃,釉與玻璃的相反點在乎釉不復雜是硅酸鹽,有時還會有硼酸鹽,鹽酸鹽。釉因為與坯體有化學反響和成份放散,因而沒有生動的化學組成,釉是由玻璃相、氣相和結晶體(興起的礦產晶相和未反響的石英晶相)組成的一個混合體。釉通常是由堿性氧化物(如SiO2,B2O3,P2O5等網絡組織氧化物),堿性氧化物(Na2O,K2O,CaO,MgO等,其自身并不玻化,而是融入玻璃相中起到改觀玻璃性質的作用,又稱變性氧化物),中性氧化物(Al2O3,ZnO,PbO,Cr2O3,Fe2O3,存在介于兩者之間的性能旁邊性質氧化物)三種氧化物組成。
釉的性能:①因為釉的存在使陶瓷坯體對液體和氣體更存在不透過性;②遮蓋于坯體的名義給人們一種美的感情;③預防坯體被凈化,即使玷辱也很輕易用肥皂粉等洗涮腌臜;④因為釉的熱收縮系數相反,能改善陶瓷坯體的機械強度以及物生化學與介電性能。1、電門管管殼對釉面的務求
因為釉面是用來遮蓋在電門管管殼名義作為防護瓷體名義不受凈化所用,而且正常均與非金屬化層一起在氫爐中燒結而成,因而釉的成熟熱度與燒成空氣務必要相配非金屬化燒結工藝,因而設計釉的配方時率先要明確以次工藝參數:釉的成熟熱度要與非金屬化燒結最低溫度統一;在氫爐中最終成釉;釉名義平坦不含氣泡,無裂紋,無針孔,無色,光潔好看。2、不含氣泡-乳濁釉的散光機理
因為釉中含有氣泡,會莫須有好看,有人就提出乳濁釉的概念。因乳濁釉中的氣泡看不見,但乳濁釉色彩發暗,不優美。此外有人提出了半乳濁釉的概念。用乳濁劑使氣泡產生散光,使人們看得見釉內的氣泡,但乳濁度又不非常高又存在通明釉的光潔感。這種半乳釉的形式已失去寬泛利用。釉的乳濁機理是光線經過釉面,當光線的通道碰壁而產生放散時,玻璃相遂產生乳濁。而在釉中要使光線通道碰壁,就務必要有粒子懸浮于釉外部妨礙光線的不利通行。而某個粒子務必在低溫時使不得溶化于釉液中,而且要勻稱地懸浮于釉體旁邊。當光線入射到釉內懸浮粒子名義時,因為粒子與玻璃相兩者的折射率相反,入射波的反照率削弱,光向四面散射造成釉的乳濁。這種乳濁動機與懸浮粒子的個數成反比,懸浮粒子的個數越多,乳濁的動機就越好,也就是說在相反品質的懸浮粒子的條件下懸浮顆粒越細,懸浮顆粒數就越多,乳濁動機就越好,當懸浮粒子小到與可見光帶長(0.39～0.75μm)相近時可見光散射大大加強,乳濁動機最好;當懸浮粒子直徑小于可見光帶長時,光線繞過粒子不產生反照景象,此時乳濁動機失蹤。因而懸浮粒子直徑為1μm左右為好。但因為懸浮粒子名義在釉液在于低溫使顆粒名義多少會被溶化掉一全體,因而說懸浮粒子的直徑在3～5μm為宜。眼前依據釉的打造工藝,這種懸浮粒子正常采納所用坯體的粉體,鋯英石粉,氧化鋯細粉。
經嘗試驗證,采納增添3%～5%氧化鋯細粉作為乳濁劑已能達成全方位的遮蔽作用,根本上看得見釉層底層所存在的氣泡。因為退出量不大,因而釉名義仍存在較強的光潔感。若將氧化鋯的退出量增多到8%～10%,那時釉面將出現較強的乳濁感,釉面的光潔感失蹤,與灶間的墻面磚存在相反的色調。3、崩釉與釉面開裂的產活力理與克服方法
正常來講,釉與坯體的熱收縮系數不行能完統一。當釉熔制實現后,結冰內中中,因為釉與瓷體的收縮系數不統一釉面將產生應力。當瓷體的膨脹大于釉時,釉面受到壓應力,當壓應力大于釉的抗壓強度時則釉將產生剝離而崩落;那末釉的膨脹大于瓷體,則釉將產生張力,當張力大于釉的抗張強度時釉將產生龜裂。但上述成分并不是絕無僅有的,崩落和龜裂還與旁邊層的薄厚及釉料華夏料藥的顆粒度無關。通常釉中氧化鈣的多少與釉坯旁邊層薄厚和聯合牢固度有親密關系。氧化硅是釉料中不行缺乏的堿性氧化物,它的顆粒度將間接關系到釉中殘余石英的多少和大小,為此正常指望氧化硅的顆粒較細,那樣它在釉熔融時盡可能全副溶于釉體旁邊,殘余的石英顆粒越少越好。因而氧化硅顆粒越細,它在釉凝固后,因釉熱度上升,由氧化硅導致的體積變遷就越小,那樣全部因體積變遷而產生的應力就越小。另一成分是石英晶粒的晶型轉變,石英晶粒的晶型轉變有一級變體和二級變體兩大類。一級變體間的轉變產生在1000℃時,由α2石英轉化成α2磷石英,體積變遷最大,約16%。但因為它的轉變進度慢,工夫長,對體積效應的抵觸就不突出,莫須有不大。而二級變體中β2石英轉變成α2石英產出生于573℃,此時的體積變遷約0.82%,固然不大,但因為轉變進度快,產生的體積變遷的證驗卻非常大,在臨時工夫內產生碩大的內應力。降溫中,稍掌握不當極易產生釉的開裂,因而釉的降溫進度也是一個要害成分。4、釉面針孔的產生起因與戰勝方法
針孔是釉料溶化時釉中氣泡出外時容留的小坑,因為保鮮工夫不夠,釉面還未流平,此時整個坯體已結束降溫,容留低溫時的釉面狀態。某個小坑在0.1mm左右,在正常陽光下,用肉眼或借助5倍放大鏡能夠發現。這針孔的缺欠是莫須有好看和光潔度,在濕潤空氣下尤其是海邊的氣霧易被吸附于針孔中,從而莫須有釉面的絕緣性能。
克服方法:
(1)在釉料配制時盡可能少采納含有一大批有機質的生粘土,硫酸鹽,碳酸鹽以及有機類黏合劑。
(2)在釉料素燒時使釉料中帶入的有機質,結晶水以及各類氣體(二氧化碳,二氧化硫)在釉面玻化前會揮發掉,即燒釉時在有機質合成時放量加快進度,增多保鮮工夫。
(3)在設計釉料配方時盡可能多得采納名義張力系數較大的物種,即要使釉面平滑如鏡需達成以次兩個條件:釉液粘度為200Pa·s(低溫粘度),名義張力要放量大些。5、釉面光潔度的改良
釉之因而能出現很優美的名義光澤重要是所以光的反照水平折射率大小相反,折射率越大光澤越好,色調越美。釉料中堿土氧化物和堿非金屬氧化物的分子量越大,折射率就越大,則釉面就越光潔。依據之上準則,采納分子量較大的堿土非金屬氧化物,比如用分子量較大的氧化鋇(分子量是153)以克分子數接替氧化鈣則釉面光潔度就會普及。另一上面取舍較好的氧化鐵氧化硅的比值,能夠較好的掌握釉面光澤,正常較好的對比是氧化鐵/氧化硅比為1∶5～1∶10。若對比達成1∶4～1∶5則釉將無光潔感,而達成1∶3～1∶4則釉面將變為無光釉。再有氧化鈣的退出量使不得太多,所以氧化鈣能使釉面產生微晶,而微晶使釉面無光。這重要是釉結冰時降溫太慢,加上釉名義產生微晶粒驅使晶粒成長的緣故。為了失去優美的釉面,光感強,務必使釉面盡可能維持低溫時的液面狀態。放慢結冰內中是一個非常現實的措施。比如KCC就是利用之上準則在釉中退出了大批的氧化鋇,同聲使氧化鐵/氧化硅比為1/6～1/7,釉面的光潔感較好。
之上講的是配方設計的全體單號的配方,沒有與之配合的生產工藝同樣使不得失去較好的釉面。6、終了語
為了失去平滑如鏡,光潔度很好的釉面,須要從以次及各上面思忖。
(1)正當的選定原料藥的品種和細度,使其低溫粘度和名義張力以及熱收縮系數等在比擬適合的規模內。
(2)制訂正當的半釉燒結燒結工藝曲線,放量使原料藥的放氣反響可以繼續得比擬到底。
(3)選定適當的乳濁劑,使釉內氣泡比擬徹底的被遮蔽掉同聲又不莫須有釉面的光潔度。
更多技術文章
|
